Нано алуминиев оксид на прах

Нано алуминиевият прах, произведен от нашата компания, има точка на топене 2050° и точка на кипене 2980°. Той се използва широко в устойчиви на износване покрития и плазмени покрития, които могат да подобрят устойчивостта на износване на покритията, да ги направят по-издръжливи, да улеснят потока и да подобрят скоростта на прахово покритие. В покритията на рулонна стомана нашият наноалуминиев прах може да служи и като защитен агент срещу топлина и радиация, осигурявайки цялостна защита на стоманата и удължавайки нейния експлоатационен живот; Може да се използва и за смилане на биокерамика и керамика от алуминиев оксид, високоефективни катализатори, оптични материали, материали за прецизно полиране и монокристални силициеви пластини. Наноалуминиевият оксид, със своите отлични защитни и свързващи свойства, осигурява стабилността и надеждността на продуктите в областта на флуоресцентните тръби и електрическите крушки; В допълнение, наноалуминиевият оксид се използва като материал за покритие в областта на висококачествената хартия за мастиленоструен печат, която може да придаде на хартията висок гланц и отлично качество на печат, което прави отпечатания текст и изображения по-ясни. Нано двуалуминиевият оксид може също така да подобри течливостта на праха, да подобри положителния заряд на прахообразния тип на триене и по този начин да подобри характеристиките на покритието на праховите покрития, използвайки метода на електростатично триене, което носи нов пробив в съвременната технология за покритие.

Нашата компания произвежда нано алуминиев прах с висока точка на топене, висока химическа стабилност и диелектрични свойства, висока твърдост, добра устойчивост на износване и ниска цена. Пръскането на нано двуалуминиев прах върху повърхността на метали, керамика, пластмаси и други материали може значително да подобри здравината на повърхността, устойчивостта на износване и устойчивостта на корозия. Наноалуминиевият оксид има отлична електрическа изолация, химическа издръжливост, устойчивост на топлина, силна радиационна устойчивост, висока диелектрична константа и равна и равномерна повърхност. Може да се използва като субстратен материал за полупроводникови материали и широкомащабни интегрални схеми и се използва широко в микроелектрониката, електрониката и информационните индустрии.